清洗模塊QW系列在位清洗泵站
用途
該機(jī)主要用于制藥工業(yè)固體制劑生產(chǎn)過程中,與濕法混合制粒機(jī)沸騰制粒機(jī)、包衣機(jī)等設(shè)備配套使用,以實(shí)現(xiàn)其在位清洗功能。同時在制藥、化工、食品等行業(yè)中廣泛使用。
原理
該機(jī)由泵站、清洗系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成。工作時,將清洗組件對接到配套設(shè)備的各清洗點(diǎn)接口,做好清洗的準(zhǔn)備。按工藝要求設(shè)定清洗程序,確認(rèn)后按設(shè)定的程序清洗設(shè)備腔體內(nèi)表面;還可外接高壓水槍,在清洗區(qū)域由人工清洗設(shè)備外表面和輔件。清洗過的設(shè)備經(jīng)過干燥處理,以備待用。
特點(diǎn)
該機(jī)是我司廣泛吸收、消化國外先進(jìn)技術(shù),結(jié)合國情研發(fā)成功的新機(jī)型,結(jié)構(gòu)合理,性能穩(wěn)定,操作方便,可以一機(jī)多用,減輕勞動強(qiáng)度,優(yōu)化了生產(chǎn)工藝,完全符合藥品生產(chǎn)的GMP要求。